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    蔓之研新品美白福音,蔓之研谷胱甘肽惊喜上市,根源阻断变黑
    2019-06-17 05:38:14发布, 次浏览 收藏 置顶 举报
蔓之研新品美白福音,蔓之研谷胱甘肽惊喜上市,根源阻断变黑
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蔓之研城市合伙人艾琳,亲临第24届美博会现场,大家期待已久的蔓之研美白系列惊喜上市,蔓之研新品美白福音,蔓之研谷胱甘肽惊喜上市,根源阻断变黑蔓之研新品美白福音,蔓之研谷胱甘肽惊喜上市,根源阻断变黑

三重阻断,根源抑黑

肌肤预见透、亮、白

氨基酸净颜透光洁面乳 100g

谷胱甘肽透光水 120ml

谷胱甘肽透光乳 100ml

谷胱甘肽透光精华 50ml

谷胱甘肽透光眼精华 30ml

谷胱甘肽透光霜 50g

谷胱甘肽透光修护面膜 25ml*6片

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创新型微脂囊靶向科技

瞬间渗透 高效养护

延释作用

小分子活性成分在脂质体包裹下进入真皮层,缓慢破裂释放出养分,可维持有效药理浓度,更加有效的产生作用。

延长产品的有效期

使用微脂囊包裹可以防止活性成分接触空气、光线而氧化导致活性降低。

增加产品导入的功效

微脂囊具有高度亲脂性,可以迅速附着在皮肤表层,可以轻易的通过角质层,到达有效部位产生作用。

 

全球领先7大专利科技

聚焦美白权威新纪元

1.     美国专利(US patent 6653327)Sabiwhite 透光科技成分

2.     内皮素拮抗剂(ZL 2006 1 0030123.5)

3.     甘光草定亮肤成分(ZL 2005 1 0023860.8)

4.     双效专利成分MHA壳聚糖

(中国专利 LZ 2013 1 0536202.3 & LZ 2013 1 0533347.8)

5.     修复因子四氢甲基嘧啶(专利LZ 2018 1 1513727.4)

6.     日本专利PMB聚季铵盐-51 (特許第 5359059号 外皮用防菌皮膜形成剤)

淡退现在斑 阻断未来斑

1.     源头阻断,抑制色素生成

美国专利(US patent 6653327)Sabiwhite 透光科技成分:主要的透光活性成分四氢姜黄素的含量达到98%以上。结合专利科技成分内皮素拮抗剂(ZL 2006 1 0030123.5)、α‑熊果苷亮肤成分,能强效抑制黑色素合成过程的限速酶—酪氨酸酶的活性,从而阻断黑色素生成。

 

2.     过程干预,改善肌肤老化

谷胱甘肽酵素提亮精华:是一种具有重要生理功能的天然活性肽,由谷氨酸、半胱氨酸和甘氨酸组成。结合专利(ZL 2005 1 0023860.8)甘光草定亮肤成分:能保护体内重要酶蛋白巯基不被氧化、灭活,有利于酶活性的发挥。可直接使自由基还原为容易代谢的酸类物质,加速自由基的排泄,从而减轻自由基对肌体的损害。

 

3.     肌底修护,温和沁白保养

双重专利抗炎因子MHA壳聚糖成分(中国专利 LZ 2013 1 0536202.3 & LZ 2013 1 0533347.8),结合修复因子四氢甲基嘧啶(专利LZ 2018 1 1513727.4)、国际专利PMB聚季铵盐-51 (日本专利:特許第 5359059号 外皮用防菌皮膜形成剤)复合神经酰胺:有效修复因紫外线、高低温等恶劣环境导致肌肤泛红、红肿等肌肤晒伤炎症,有效建立肌肤砖墙结构,抵御外界侵袭。

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